红外光谱法在铜氧化物测定方面的应用 铜基材料因其独特的物理化学特性，在电子行业中扮演着重要的角色。在引线框架、集成电路，以及DCB、AMB和印刷电路板等不同应用中铜基材料都不可或缺。 在特定应用中，铜表面的氧化程度对电子产品的性能和可靠性有着显著影响，如：导电性能下降，焊接性能下降，美观度降低，耐蚀性和亲水性变化等，因此在电子行业中，对铜材料的抗氧化处理和氧化程度的控制是非常重要的。如何选用高效便捷科学的测试方法是我们关注的焦点。 铜的氧化是金属铜发生化学反应生成铜氧化物的过程，其中Cu-Cu键断裂，Cu-O键生成，通常可以测试Cu-O键来判断铜氧化物是否存在。 红外光谱是分子选择性吸收特定波长的红外线后，从而引起分子中振动能级和转动能级的跃迁，检测红外线被吸收的情况可得到物质的红外吸收光谱。用红外光照射有机物分子时，分子中的化学键或官能团可发生振动吸收，不同的化学键或官能团吸收频率不同，在红外光谱上将处于不同位置，从而可获得分子中含有何种化学键或官能团的信息。 FTIR红外光谱法是可用于检测铜氧化物的手段之一。   FTIR在氧化物测定中的优势： 无损检测：FTIR是非破坏性测试，不会对样品造成任何损害，适合于贵重或比较有限的样品。 快速响应：FTIR能够在短时间内完成测试，满足快速质量控制需要。 高灵敏度：FTIR能够检测微小的化学变化。 以铜片为例，说明FTIR在测定铜氧化物的应用。 利用红外光谱仪测试反应前后活性基团特征吸收峰的变化来确定是否含有铜氧化物，该方法快速方便、结果可靠。 1.硬件配置 主机：Bruker LUMOS 傅里叶变换显微红外光谱仪， ATR模式 2.测试条件 测试波数：4000-600cm-1分辨率：4cm-1 扫描次数：64次   3.测试过程 取已经完全去氧化的洁净铜片，标记测试面并向上放置，测试其红外谱图。同一样品分别测试 3...