AI模组清洗难？ZESTRON助您一站式提升“芯”净界
ZESTRON在深圳湾芯展8馆C31与您分享！
您是否正在面对这些清洗难题？
1. AI模组、2.5D/3D封装结构越来越复杂，底部间隙越来越小，助焊剂残留洗不干净？
2.助焊剂清洗剂与芯片、基板、金属材料兼容性不足，担心损伤敏感材料？
3.清洗工艺不稳定，良率波动、返工率高，却找不到根本原因？
4.清洗设备选型靠经验、助焊剂清洗剂靠试错，试错成本高、周期长？
5.清洗成本居高不下，助焊剂清洗剂寿命短、浪费多，却难以优化？
如果这些是你的痛点，快来2026湾芯展与ZESTRON洁创面对面交流，助您一站式提升“芯”净界。
2026湾芯展将于10月14-16日在深圳会展中心（福田）举办，覆盖晶圆制造、化合物半导体、先进封装、IC设计/AI基础设施四大产业链环节。本次展会我们带来一站式清洗解决方案，从助焊剂清洗剂选型、设备匹配、清洁度分析到工艺优化，帮您把“洗干净”变成可验证、可复制、可落地的稳定工艺。
本次ZESTRON洁创重点展示半导体先进封装清洗解决方案。亮点如下：
助焊剂清洗剂产品推荐：VIGON AP 165系列
专为超大尺寸芯片、极小球间距、超低底部间隙及2.5D/3D多层堆叠等复杂先进封装组件研发，凭借出色的渗透能力可深入微小间隙彻底清除助焊剂残留，同时具备优异的材料兼容性，可兼容先进封装中多元敏感材质避免损伤元器件，还拥有超长的使用寿命，是高要求先进封装场景的理想选择。
清洗工艺监控产品推荐：ZESTRON EYE系列
补加助焊剂清洗剂还在全凭经验吗？这将造成过度浪费或清洗不足！
当行业迈向工业4.0，清洗工艺的智能化与数据化成为关键。
ZESTRON EYE系列清洗工艺监控产品是清洗液浓度智能管控方案，全系列均搭载3P声学技术，可精准捕捉清洗液浓度波动，实现实时监测。支持数据全程存储追溯、触屏智能交互与异常报错及时提醒，实现“洗得净，更洗得稳”的工艺稳定性与效益最大化。
现场互动，好礼相送
欢迎莅临ZESTRON洁创展位，与我们专家面对面技术交流！
带上您的技术痛点，现场解惑。
参与互动活动，还有机会赢取神秘好礼！
2026湾区半导体产业生态博览会（简称“湾芯展”）
展会时间：2026年10月14日-16日（周三至周五）
展馆地点：深圳会展中心（福田）
ZESTRON洁创展位号：8号馆，8C31
